研究者リスト 中嶋 誠二 中嶋 誠二ナカシマ セイジ (Seiji Nakashima) ダウンロードする帳票の形式を下記より選択して下さい 「教育研究等環境」形式 「文科省帳票様式第4号 ①履歴書」形式 「文科省帳票様式第4号 ②教育研究業績書」形式 基本情報 所属兵庫県立大学 工学研究科 電子情報工学専攻 准教授学位博士(工学)(2009年3月 大阪大学)J-GLOBAL ID201001021795659559researchmap会員ID6000025936外部リンクhttp://www.eng.u-hyogo.ac.jp/eecs/eecs7/index_j.html 研究キーワード 9 マルチフェロイック 強誘電体 スパッタ 薄膜 ビスマスフェライト BiFeO3 multiferroics Thin films BiFeO3 研究分野 2 ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器 / ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学 / 経歴 6 2019年4月 - 現在 兵庫県立大学 大学院 工学研究科 准教授 2009年4月 - 2019年3月 - 兵庫県立大学大学院工学研究科 助教 2004年 - 2006年 同上 主任技師 2002年 - 2004年 同上 生産コア技術研究所 社員 2001年 - 2002年 同上 生産革新本部超加工研究所 社員 もっとみる 学歴 2 - 2009年 大阪大学 基礎工学研究科 システム創成専攻 - 1999年 姫路工業大学 工学研究科 電気系工学専攻 論文 75 Graphene transfer onto epitaxial Mn-doped BiFeO3/SrRuO3/SrTiO3 heterostructure using self-assembled monolayer and its photovoltaic effect Seiji Nakashima, Ryoma Takagi, Kota Nakatsuka, Shunjiro Fujii, Ai I. Osaka, Hironori Fujisawa Japanese Journal of Applied Physics 2025年8月1日 Ultra-rapid cooling in the millisecond timescale for the enhancement of polarization properties in Al:HfO2 thin films using flash lamp annealing Hideaki Tanimura, Tomoya Mifune, Yuma Ueno, Hironori Fujisawa, Seiji Nakashima, Ai I. Osaka, Shinichi Kato, Takumi Mikawa Japanese Journal of Applied Physics 64 01SP05 2025年1月7日 査読有り Corrigendum: “Low-thermal-budget crystallization of ferroelectric Al:HfO2 films by millisecond flash lamp annealing” [Jpn. J. Appl. Phys. 63 09SP10 (2024)] Hideaki Tanimura, Yuma Ueno, Tomoya Mifune, Hironori Fujisawa, Seiji Nakashima, Ai I. Osaka, Shinichi Kato, Takumi Mikawa Japanese Journal of Applied Physics 2024年10月1日 Low-thermal-budget crystallization of ferroelectric Al:HfO2 films by millisecond flash lamp annealing Hideaki Tanimura, Yuma Ueno, Tomoya Mifune, Hironori Fujisawa, Seiji Nakashima, Ai I. Osaka, Shinichi Kato, Takumi Mikawa Japanese Journal of Applied Physics 63 109302 2024年9月2日 査読有り Intermediate multidomain state in single-crystalline Mn-doped BiFeO<inf>3</inf> thin films during ferroelectric polarization switching Seiji Nakashima, Koji Kimura, Naohisa Happo, Artoni Kevin R. Ang, Yuta Yamamoto, Halubai Sekhar, Ai I. Osaka, Koichi Hayashi, Hironori Fujisawa Scientific Reports 14 14358-1-9 2024年6月21日 筆頭著者責任著者 もっとみる MISC 29 蛍光X線ホログラフィーによるVドープBiFeO3薄膜の構造解析 中嶋誠二, 有馬知希, 木村耕治, 八方直久, 藤沢浩訓, 林好一 KEK Progress Report (Web) (2024-2) 2024年 電圧印加蛍光X線ホログラフィーによるPb(Mg1/3Nb2/3)O3-PbTiO3の構造解析 外山寛, 木村耕治, 中嶋誠二, 八方直久, 林好一 KEK Progress Report (Web) (2024-2) 2024年 強誘電体薄膜のバルク光起電力効果を用いた高電圧発生とそれを用いた光駆動アクチュエータ 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 清水勝 岩谷直治記念財団研究報告書 42 2019年 強誘電体ナノワイヤキャパシタの作製 : 高集積強誘電体メモリへの応用を目指して (シリコン材料・デバイス) 藤沢 浩訓, 清水 勝, 中嶋 誠二 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 116(118) 15-19 2016年6月29日 強誘電体を半導体として用いる新規デバイスを指向した単一ドメインBiFeO3薄膜の電気伝導機構の解明 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 清水勝 村田学術振興財団年報 (28) 2014年 もっとみる 講演・口頭発表等 153 Smドープ量がBiFeO3の局所原子配列構造に及ぼす影響 岡崎 海馬, 中嶋 誠二, 川上 真梨花, 有馬 知希, 木村 耕治, 八方 直久, Halubai Sekha, 麻生 亮太郎, 大坂 藍, 林 好一, 藤沢 浩訓 第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月16日 強誘電性Al:HfO2薄膜の積層構造が電気特性に与える影響 谷村 英昭, 三船 智哉, 植野 雄守, 谷 勇佑, 藤沢 浩訓, 中嶋 誠二, 大坂 藍, 加藤 慎一, 三河 巧 第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月14日 ミリ秒単位の超高速冷却が強誘電体Al:HfO2 薄膜の電気特性に与える影響 谷 勇佑, 三船 智哉, 谷村 英昭, 植野 雄守, 藤沢 浩訓, 中嶋 誠二, 大坂 藍, 加藤 慎一, 三河 巧 第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月14日 ミストCVD法を用いたマイクロロッド型VOx結晶の作製 高山 大輝, 藤澤 浩訓, 中嶋 誠二, 大坂 藍 第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月14日 Atomic Structure Analysis of BiFeO3-Based Thin Films by X-ray Fluorescence Holography Seiji Nakashima, Kazuki Arima, Marika Kawakami, Koji Kimura, Naohisa Happo, Halubai Sekhar, Koich Hayashi, Ai I. Osaka, Hironori Fujisawa 21st US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics 2024年11月10日 もっとみる 所属学協会 2 米国材料学会 応用物理学会 共同研究・競争的資金等の研究課題 17 低次元物質/強誘電体ヘテロ接合を用いた新メカニズム太陽電池の創出 日本学術振興会 科学研究費助成事業 2023年4月 - 2026年3月 中嶋 誠二, 藤澤 浩訓 低次元物質/強誘電体ヘテロ接合を用いた新メカニズム太陽電池の創出 日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(B) 2023年4月 - 2026年3月 中嶋 誠二 強誘電性半導体におけるドーパント誘起超秩序構造の 外場印加下の機能解明 日本学術振興会 科学研究費助成事業 学術変革領域研究(A) 2021年9月 - 2023年3月 中嶋 誠二 pn接合によらない異常光起電力効果に基づく次々世代高効率太陽電池の創製 日本学術振興会 科学研究費助成事業 2021年7月 - 2023年3月 藤澤 浩訓, 中嶋 誠二 強誘電体帯電表面・界面における擬似ドーパント効果の検討とその制御 日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(C) 2019年4月 - 2022年3月 中嶋 誠二, 藤澤 浩訓 もっとみる
中嶋 誠二ナカシマ セイジ (Seiji Nakashima) ダウンロードする帳票の形式を下記より選択して下さい 「教育研究等環境」形式 「文科省帳票様式第4号 ①履歴書」形式 「文科省帳票様式第4号 ②教育研究業績書」形式 基本情報 所属兵庫県立大学 工学研究科 電子情報工学専攻 准教授学位博士(工学)(2009年3月 大阪大学)J-GLOBAL ID201001021795659559researchmap会員ID6000025936外部リンクhttp://www.eng.u-hyogo.ac.jp/eecs/eecs7/index_j.html 研究キーワード 9 マルチフェロイック 強誘電体 スパッタ 薄膜 ビスマスフェライト BiFeO3 multiferroics Thin films BiFeO3 研究分野 2 ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器 / ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学 / 経歴 6 2019年4月 - 現在 兵庫県立大学 大学院 工学研究科 准教授 2009年4月 - 2019年3月 - 兵庫県立大学大学院工学研究科 助教 2004年 - 2006年 同上 主任技師 2002年 - 2004年 同上 生産コア技術研究所 社員 2001年 - 2002年 同上 生産革新本部超加工研究所 社員 もっとみる 学歴 2 - 2009年 大阪大学 基礎工学研究科 システム創成専攻 - 1999年 姫路工業大学 工学研究科 電気系工学専攻 論文 75 Graphene transfer onto epitaxial Mn-doped BiFeO3/SrRuO3/SrTiO3 heterostructure using self-assembled monolayer and its photovoltaic effect Seiji Nakashima, Ryoma Takagi, Kota Nakatsuka, Shunjiro Fujii, Ai I. Osaka, Hironori Fujisawa Japanese Journal of Applied Physics 2025年8月1日 Ultra-rapid cooling in the millisecond timescale for the enhancement of polarization properties in Al:HfO2 thin films using flash lamp annealing Hideaki Tanimura, Tomoya Mifune, Yuma Ueno, Hironori Fujisawa, Seiji Nakashima, Ai I. Osaka, Shinichi Kato, Takumi Mikawa Japanese Journal of Applied Physics 64 01SP05 2025年1月7日 査読有り Corrigendum: “Low-thermal-budget crystallization of ferroelectric Al:HfO2 films by millisecond flash lamp annealing” [Jpn. J. Appl. Phys. 63 09SP10 (2024)] Hideaki Tanimura, Yuma Ueno, Tomoya Mifune, Hironori Fujisawa, Seiji Nakashima, Ai I. Osaka, Shinichi Kato, Takumi Mikawa Japanese Journal of Applied Physics 2024年10月1日 Low-thermal-budget crystallization of ferroelectric Al:HfO2 films by millisecond flash lamp annealing Hideaki Tanimura, Yuma Ueno, Tomoya Mifune, Hironori Fujisawa, Seiji Nakashima, Ai I. Osaka, Shinichi Kato, Takumi Mikawa Japanese Journal of Applied Physics 63 109302 2024年9月2日 査読有り Intermediate multidomain state in single-crystalline Mn-doped BiFeO<inf>3</inf> thin films during ferroelectric polarization switching Seiji Nakashima, Koji Kimura, Naohisa Happo, Artoni Kevin R. Ang, Yuta Yamamoto, Halubai Sekhar, Ai I. Osaka, Koichi Hayashi, Hironori Fujisawa Scientific Reports 14 14358-1-9 2024年6月21日 筆頭著者責任著者 もっとみる MISC 29 蛍光X線ホログラフィーによるVドープBiFeO3薄膜の構造解析 中嶋誠二, 有馬知希, 木村耕治, 八方直久, 藤沢浩訓, 林好一 KEK Progress Report (Web) (2024-2) 2024年 電圧印加蛍光X線ホログラフィーによるPb(Mg1/3Nb2/3)O3-PbTiO3の構造解析 外山寛, 木村耕治, 中嶋誠二, 八方直久, 林好一 KEK Progress Report (Web) (2024-2) 2024年 強誘電体薄膜のバルク光起電力効果を用いた高電圧発生とそれを用いた光駆動アクチュエータ 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 清水勝 岩谷直治記念財団研究報告書 42 2019年 強誘電体ナノワイヤキャパシタの作製 : 高集積強誘電体メモリへの応用を目指して (シリコン材料・デバイス) 藤沢 浩訓, 清水 勝, 中嶋 誠二 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 116(118) 15-19 2016年6月29日 強誘電体を半導体として用いる新規デバイスを指向した単一ドメインBiFeO3薄膜の電気伝導機構の解明 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 清水勝 村田学術振興財団年報 (28) 2014年 もっとみる 講演・口頭発表等 153 Smドープ量がBiFeO3の局所原子配列構造に及ぼす影響 岡崎 海馬, 中嶋 誠二, 川上 真梨花, 有馬 知希, 木村 耕治, 八方 直久, Halubai Sekha, 麻生 亮太郎, 大坂 藍, 林 好一, 藤沢 浩訓 第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月16日 強誘電性Al:HfO2薄膜の積層構造が電気特性に与える影響 谷村 英昭, 三船 智哉, 植野 雄守, 谷 勇佑, 藤沢 浩訓, 中嶋 誠二, 大坂 藍, 加藤 慎一, 三河 巧 第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月14日 ミリ秒単位の超高速冷却が強誘電体Al:HfO2 薄膜の電気特性に与える影響 谷 勇佑, 三船 智哉, 谷村 英昭, 植野 雄守, 藤沢 浩訓, 中嶋 誠二, 大坂 藍, 加藤 慎一, 三河 巧 第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月14日 ミストCVD法を用いたマイクロロッド型VOx結晶の作製 高山 大輝, 藤澤 浩訓, 中嶋 誠二, 大坂 藍 第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月14日 Atomic Structure Analysis of BiFeO3-Based Thin Films by X-ray Fluorescence Holography Seiji Nakashima, Kazuki Arima, Marika Kawakami, Koji Kimura, Naohisa Happo, Halubai Sekhar, Koich Hayashi, Ai I. Osaka, Hironori Fujisawa 21st US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics 2024年11月10日 もっとみる 所属学協会 2 米国材料学会 応用物理学会 共同研究・競争的資金等の研究課題 17 低次元物質/強誘電体ヘテロ接合を用いた新メカニズム太陽電池の創出 日本学術振興会 科学研究費助成事業 2023年4月 - 2026年3月 中嶋 誠二, 藤澤 浩訓 低次元物質/強誘電体ヘテロ接合を用いた新メカニズム太陽電池の創出 日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(B) 2023年4月 - 2026年3月 中嶋 誠二 強誘電性半導体におけるドーパント誘起超秩序構造の 外場印加下の機能解明 日本学術振興会 科学研究費助成事業 学術変革領域研究(A) 2021年9月 - 2023年3月 中嶋 誠二 pn接合によらない異常光起電力効果に基づく次々世代高効率太陽電池の創製 日本学術振興会 科学研究費助成事業 2021年7月 - 2023年3月 藤澤 浩訓, 中嶋 誠二 強誘電体帯電表面・界面における擬似ドーパント効果の検討とその制御 日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(C) 2019年4月 - 2022年3月 中嶋 誠二, 藤澤 浩訓 もっとみる