研究者検索結果一覧 部家 彰 部家 彰ヘヤ アキラ (Akira Heya) ダウンロードする帳票の形式を下記より選択して下さい 「教育研究等環境」形式 「文科省帳票様式第4号 ①履歴書」形式 「文科省帳票様式第4号 ②教育研究業績書」形式 基本情報 所属兵庫県立大学 大学院 工学研究科 材料・放射光工学専攻 准教授学位材料科学(北陸先端科学技術大学院大学)J-GLOBAL ID200901019380365490researchmap会員ID5000006324外部リンクhttp://www.eng.u-hyogo.ac.jp/outline/faculty/heya/index.html 研究キーワード 9 原子状水素アニール 原子状水素 グラフェンナノリボン 触媒 化学気相成長 グラフェン 2次元材料 構造解析 半導体薄膜 研究分野 5 エネルギー / 量子ビーム科学 / ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 反応工学、プロセスシステム工学 / ナノテク・材料 / 複合材料、界面 / ナノテク・材料 / ナノ構造物理 / ナノテク・材料 / 無機材料、物性 / 経歴 3 2008年4月 - 現在 兵庫県立大学大学院 工学研究科 准教授 2005年7月 - 2008年3月 兵庫県立大学大学院 工学研究科 助教 2000年4月 - 2005年6月 石川県工業試験場 電子情報部 技師 学歴 2 - 2000年 北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科 物性科学専攻 - 1995年 鳴門教育大学 学校教育学部 自然系Ⅱ(理科)専攻 委員歴 7 2026年4月 - 現在 第16回 原子レベル制御表面・界面・ナノ構造会議 現地実行委員 2025年4月 - 現在 日本金属学会 講演大会委員 2017年 - 現在 HWCVD プログラム委員 2007年 - 現在 Cat-CVD研究会 実行委員 2006年 - 現在 AMFPD プログラム委員 もっとみる 論文 156 Anomalous grain boundary and carrier transport in cat-CVD poly-Si films A Heya, AQ He, N Otsuka, H Matsumura JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS 227 1016-1020 1998年 査読有り Microstructure of polysilicon films grown by catalytic chemical vapor deposition method AQ He, A Heya, N Otsuka, H Matsumura JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 37(1) 92-93 1998年1月 査読有り Guide for Low-Temperature and High-Rate Deposition of Device Quality Poly-Silicon Films By Cat-Cvd Method Hideki Matsumura, Kazuhisa Nakata, Akira Heya, Akira Izumi MRS Proceedings 507 435-439 1998年 査読有り Study on cat-CVD poly-Si films for solar cell application R Iiduka, A Heya, H Matsumura SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS 48(1-4) 279-285 1997年11月 査読有り Low-temperature formation of device-quality polysilicon films by cat-CVD method H Matsumura, A Heya, R Iizuka, A Izumi, AQ He, N Otsuka ADVANCES IN MICROCRYSTALLINE AND NANOCRYSTALLINE SEMICONDUCTORS - 1996 452 983-988 1997年 査読有り Electron Conduction Mechanism in the high temperatures for Thin-Film Transistor utilizing Tunnel Effect 部家 彰 査読有り «1234 MISC 179 水素化ダイヤモンドライクカーボンの電子状態 春山雄一, 部家彰, 住友弘二, 伊藤省吾 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 39th 2026年1月7日 小胞融合に基づく巨大ベシクル型バイオセンサー—Giant unilamellar vesicle-type biosensor working with vesicle fusion—光・量子デバイス研究会・量子ビームによる物質計測・制御とそのバイオメディカルシステム応用 湊元 幹太, 住友 弘二, 部家 彰, 大嶋 梓, 井上 友莉香, 山口 真澄 電気学会研究会資料. OQD = The papers of technical meeting on optical and quantum devices, IEE Japan / 光・量子デバイス研究会 [編] 2025(30-37) 7-9 2025年12月22日 小胞融合に基づく巨大ベシクル型バイオセンサー 井上友莉香, 大嶋梓, 湊元幹太, 山口真澄, 部家彰, 住友弘二 電気学会研究会資料(Web) (OQD-25-030-037) 2025年12月22日 ペンタセン重合によるナノグラフェン合成におけるNi触媒の効果 部家彰, 山崎良, 住友弘二 日本金属学会講演大会(Web) 177th 2025年9月18日 ペンタセン重合における原子状水素の効果 中山美咲, 住友弘二, 部家彰 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 86th 2025年9月9日 もっとみる 書籍等出版物 8 これからの蓄・省エネルギー材料の開発における機能性付与技術 部家 彰 (担当:分担執筆, 範囲:第7章1節 有機EL用水蒸気バリア膜の形成) 技術情報協会 2013年5月 ロールtoロール事例集~プロセス応用に向けた技術課題と対策~ 部家 彰 (担当:分担執筆, 範囲:第1章2節 Cat-CVDのRoll to Rollプロセスの優位性と課題) 情報機構 2011年3月 ディスプレイと照明の材料技術 ~液晶・プラズマ・有機EL・無機EL・LED・プロジェクター 部家 彰 (担当:分担執筆, 範囲:第4章12節 有機ELの保護膜形成技術) CMC出版 2010年3月 触媒CVD(Cat-CVD)の新展開 -ラジカルを用いる新プロセス技術- 部家 彰 (担当:分担執筆, 範囲:第2章4節 ロールツーロール型Cat-CVD装置) CMC出版 2008年10月 ドライプロセスによるディスプレイ・光学部材における具体的な薄膜製造コーティング技術 部家 彰 (担当:分担執筆, 範囲:第4章5節 有機ELの保護膜形成技術) 情報機構 2007年8月 もっとみる 主要な講演・口頭発表等 95 軟X線照射による高分子電解質膜の表面改質 部家 彰, 神田 一浩, 住友 弘二 ニュースバルシンポジウム 2025 2025年3月10日 もっとみる 担当経験のある科目(授業) 5 2025年4月 - 現在 力学基礎 (兵庫県立大学) 材料計測制御工学 (兵庫県立大学) 材料計測学 (兵庫県立大学) 半導体工学Ⅱ (兵庫県立大学) 電磁気学 (兵庫県立大学) 所属学協会 5 2025年4月 - 現在 日本金属学会 1996年4月 - 現在 応用物理学会 2021年4月 - 2024年3月 日本表面真空学会 2007年10月 電子情報通信学 2007年7月 表面技術協会 共同研究・競争的資金等の研究課題 24 加熱金属担持触媒を用いたヘテロ原子含有2次元芳香族化合物創製とデバイス応用 日本学術振興会 科学研究費助成事業 2025年4月 - 2028年3月 部家 彰, 住友 弘二 マイクロウエル架橋膜と生物小胞の融合による内容物解析基盤 日本学術振興会 科学研究費助成事業 2022年4月 - 2026年3月 住友 弘二, 山口 明啓, 湊元 幹太, 部家 彰, 大嶋 梓 水素と加熱触媒体を用いた2次元芳香族化合物創製とスピンデバイス応用 日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(C) 2022年4月 - 2025年3月 部家 彰 原子状水素センサの開発 姫路市 産学協同研究助成 2024年8月 - 2025年3月 部家彰, 住友弘二 原子状水素・原子状窒素を用いた新半導体材料の開発 姫路市 産学協同研究助成 2021年8月 - 2022年3月 部家彰, 住友弘二, 新部正人 もっとみる 産業財産権 6 特開2013-062448 太陽電池素子及び太陽電池素子の製造方法 松尾 直人, 部家 彰 特許第4589054号 表示装置用フィルムの製造方法 猪狩 徳夫, 南川 俊治, 部家 彰, 室井 進 特許第4474840号 窒化シリコン膜の製造方法 南川 俊治, 部家 彰, 小泉 彰夫, 室井 進, 増田 淳, 梅本 宏信, 松村 英樹, 仁木 敏一 特開2007-154050 機能性を付与するためのプラスチック表面処理法 部家 彰, 松尾 直人 特開2006-057121 窒化シリコン膜の製造方法及び表示装置用フィルム 猪狩 徳夫, 南川 俊治, 部家 彰, 室井 進 もっとみる
部家 彰ヘヤ アキラ (Akira Heya) ダウンロードする帳票の形式を下記より選択して下さい 「教育研究等環境」形式 「文科省帳票様式第4号 ①履歴書」形式 「文科省帳票様式第4号 ②教育研究業績書」形式 基本情報 所属兵庫県立大学 大学院 工学研究科 材料・放射光工学専攻 准教授学位材料科学(北陸先端科学技術大学院大学)J-GLOBAL ID200901019380365490researchmap会員ID5000006324外部リンクhttp://www.eng.u-hyogo.ac.jp/outline/faculty/heya/index.html 研究キーワード 9 原子状水素アニール 原子状水素 グラフェンナノリボン 触媒 化学気相成長 グラフェン 2次元材料 構造解析 半導体薄膜 研究分野 5 エネルギー / 量子ビーム科学 / ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 反応工学、プロセスシステム工学 / ナノテク・材料 / 複合材料、界面 / ナノテク・材料 / ナノ構造物理 / ナノテク・材料 / 無機材料、物性 / 経歴 3 2008年4月 - 現在 兵庫県立大学大学院 工学研究科 准教授 2005年7月 - 2008年3月 兵庫県立大学大学院 工学研究科 助教 2000年4月 - 2005年6月 石川県工業試験場 電子情報部 技師 学歴 2 - 2000年 北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科 物性科学専攻 - 1995年 鳴門教育大学 学校教育学部 自然系Ⅱ(理科)専攻 委員歴 7 2026年4月 - 現在 第16回 原子レベル制御表面・界面・ナノ構造会議 現地実行委員 2025年4月 - 現在 日本金属学会 講演大会委員 2017年 - 現在 HWCVD プログラム委員 2007年 - 現在 Cat-CVD研究会 実行委員 2006年 - 現在 AMFPD プログラム委員 もっとみる 論文 156 Anomalous grain boundary and carrier transport in cat-CVD poly-Si films A Heya, AQ He, N Otsuka, H Matsumura JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS 227 1016-1020 1998年 査読有り Microstructure of polysilicon films grown by catalytic chemical vapor deposition method AQ He, A Heya, N Otsuka, H Matsumura JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 37(1) 92-93 1998年1月 査読有り Guide for Low-Temperature and High-Rate Deposition of Device Quality Poly-Silicon Films By Cat-Cvd Method Hideki Matsumura, Kazuhisa Nakata, Akira Heya, Akira Izumi MRS Proceedings 507 435-439 1998年 査読有り Study on cat-CVD poly-Si films for solar cell application R Iiduka, A Heya, H Matsumura SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS 48(1-4) 279-285 1997年11月 査読有り Low-temperature formation of device-quality polysilicon films by cat-CVD method H Matsumura, A Heya, R Iizuka, A Izumi, AQ He, N Otsuka ADVANCES IN MICROCRYSTALLINE AND NANOCRYSTALLINE SEMICONDUCTORS - 1996 452 983-988 1997年 査読有り Electron Conduction Mechanism in the high temperatures for Thin-Film Transistor utilizing Tunnel Effect 部家 彰 査読有り «1234 MISC 179 水素化ダイヤモンドライクカーボンの電子状態 春山雄一, 部家彰, 住友弘二, 伊藤省吾 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 39th 2026年1月7日 小胞融合に基づく巨大ベシクル型バイオセンサー—Giant unilamellar vesicle-type biosensor working with vesicle fusion—光・量子デバイス研究会・量子ビームによる物質計測・制御とそのバイオメディカルシステム応用 湊元 幹太, 住友 弘二, 部家 彰, 大嶋 梓, 井上 友莉香, 山口 真澄 電気学会研究会資料. OQD = The papers of technical meeting on optical and quantum devices, IEE Japan / 光・量子デバイス研究会 [編] 2025(30-37) 7-9 2025年12月22日 小胞融合に基づく巨大ベシクル型バイオセンサー 井上友莉香, 大嶋梓, 湊元幹太, 山口真澄, 部家彰, 住友弘二 電気学会研究会資料(Web) (OQD-25-030-037) 2025年12月22日 ペンタセン重合によるナノグラフェン合成におけるNi触媒の効果 部家彰, 山崎良, 住友弘二 日本金属学会講演大会(Web) 177th 2025年9月18日 ペンタセン重合における原子状水素の効果 中山美咲, 住友弘二, 部家彰 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 86th 2025年9月9日 もっとみる 書籍等出版物 8 これからの蓄・省エネルギー材料の開発における機能性付与技術 部家 彰 (担当:分担執筆, 範囲:第7章1節 有機EL用水蒸気バリア膜の形成) 技術情報協会 2013年5月 ロールtoロール事例集~プロセス応用に向けた技術課題と対策~ 部家 彰 (担当:分担執筆, 範囲:第1章2節 Cat-CVDのRoll to Rollプロセスの優位性と課題) 情報機構 2011年3月 ディスプレイと照明の材料技術 ~液晶・プラズマ・有機EL・無機EL・LED・プロジェクター 部家 彰 (担当:分担執筆, 範囲:第4章12節 有機ELの保護膜形成技術) CMC出版 2010年3月 触媒CVD(Cat-CVD)の新展開 -ラジカルを用いる新プロセス技術- 部家 彰 (担当:分担執筆, 範囲:第2章4節 ロールツーロール型Cat-CVD装置) CMC出版 2008年10月 ドライプロセスによるディスプレイ・光学部材における具体的な薄膜製造コーティング技術 部家 彰 (担当:分担執筆, 範囲:第4章5節 有機ELの保護膜形成技術) 情報機構 2007年8月 もっとみる 主要な講演・口頭発表等 95 軟X線照射による高分子電解質膜の表面改質 部家 彰, 神田 一浩, 住友 弘二 ニュースバルシンポジウム 2025 2025年3月10日 もっとみる 担当経験のある科目(授業) 5 2025年4月 - 現在 力学基礎 (兵庫県立大学) 材料計測制御工学 (兵庫県立大学) 材料計測学 (兵庫県立大学) 半導体工学Ⅱ (兵庫県立大学) 電磁気学 (兵庫県立大学) 所属学協会 5 2025年4月 - 現在 日本金属学会 1996年4月 - 現在 応用物理学会 2021年4月 - 2024年3月 日本表面真空学会 2007年10月 電子情報通信学 2007年7月 表面技術協会 共同研究・競争的資金等の研究課題 24 加熱金属担持触媒を用いたヘテロ原子含有2次元芳香族化合物創製とデバイス応用 日本学術振興会 科学研究費助成事業 2025年4月 - 2028年3月 部家 彰, 住友 弘二 マイクロウエル架橋膜と生物小胞の融合による内容物解析基盤 日本学術振興会 科学研究費助成事業 2022年4月 - 2026年3月 住友 弘二, 山口 明啓, 湊元 幹太, 部家 彰, 大嶋 梓 水素と加熱触媒体を用いた2次元芳香族化合物創製とスピンデバイス応用 日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(C) 2022年4月 - 2025年3月 部家 彰 原子状水素センサの開発 姫路市 産学協同研究助成 2024年8月 - 2025年3月 部家彰, 住友弘二 原子状水素・原子状窒素を用いた新半導体材料の開発 姫路市 産学協同研究助成 2021年8月 - 2022年3月 部家彰, 住友弘二, 新部正人 もっとみる 産業財産権 6 特開2013-062448 太陽電池素子及び太陽電池素子の製造方法 松尾 直人, 部家 彰 特許第4589054号 表示装置用フィルムの製造方法 猪狩 徳夫, 南川 俊治, 部家 彰, 室井 進 特許第4474840号 窒化シリコン膜の製造方法 南川 俊治, 部家 彰, 小泉 彰夫, 室井 進, 増田 淳, 梅本 宏信, 松村 英樹, 仁木 敏一 特開2007-154050 機能性を付与するためのプラスチック表面処理法 部家 彰, 松尾 直人 特開2006-057121 窒化シリコン膜の製造方法及び表示装置用フィルム 猪狩 徳夫, 南川 俊治, 部家 彰, 室井 進 もっとみる