研究者リスト 早勢 直紀 早勢 直紀ハヤセ ナオキ (Naoki Hayase) ダウンロードする帳票の形式を下記より選択して下さい 「教育研究等環境」形式 「文科省帳票様式第４号 ①履歴書」形式 「文科省帳票様式第４号 ②教育研究業績書」形式 基本情報 所属兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 助教研究者番号81021631J-GLOBAL ID202501016447057391researchmap会員IDR000087817 研究キーワード 2 Beyond EUV lithography EUV lithography 経歴 3 2025年4月 - 現在 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 助教 2023年11月 - 2025年3月 国立研究開発法人情報通信研究機構 未来ICT研究所 研究技術員 2020年10月 - 2023年10月 HOYA株式会社 技術開発部 論文 1 Beyond EUV binary and phase shift masks simulation Naoki Hayase, Tetsuo Harada Proc. SPIE 2024年8月 講演・口頭発表等 5 Background level theory for EUV multilayer deposition Naoki Hayase, Tetsuo Harada Photomask Japan 2025 2025年4月 Concept of EUV pulse width modulation Naoki Hayase The 21st IEEE TOWERS 2024年10月 Consolidated design approach to EUV mask blanks with TaBN based absorber Takahiro Onoue, Naoki Hayase, Kazutake Taniguchi, Hitoshi Maeda, Teiichiro Umezawa Photomask Technology 2023 2023年11月 Simulation study of Beyond-EUV mirrors for 6.7nm wavelength Naoki Hayase The 20th IEEE TOWERS 2023年10月 Feasibility study of alternative multilayer for EUV mask Teiichiro Umezawa, Yohei Ikebe, Naoki Hayase, Takahiro Onoue Photomask Technology 2022 2022年11月 所属学協会 2 2024年 - 現在 Optica 2024年 - 現在 SPIE
早勢 直紀ハヤセ ナオキ (Naoki Hayase) ダウンロードする帳票の形式を下記より選択して下さい 「教育研究等環境」形式 「文科省帳票様式第４号 ①履歴書」形式 「文科省帳票様式第４号 ②教育研究業績書」形式 基本情報 所属兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 助教研究者番号81021631J-GLOBAL ID202501016447057391researchmap会員IDR000087817 研究キーワード 2 Beyond EUV lithography EUV lithography 経歴 3 2025年4月 - 現在 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 助教 2023年11月 - 2025年3月 国立研究開発法人情報通信研究機構 未来ICT研究所 研究技術員 2020年10月 - 2023年10月 HOYA株式会社 技術開発部 論文 1 Beyond EUV binary and phase shift masks simulation Naoki Hayase, Tetsuo Harada Proc. SPIE 2024年8月 講演・口頭発表等 5 Background level theory for EUV multilayer deposition Naoki Hayase, Tetsuo Harada Photomask Japan 2025 2025年4月 Concept of EUV pulse width modulation Naoki Hayase The 21st IEEE TOWERS 2024年10月 Consolidated design approach to EUV mask blanks with TaBN based absorber Takahiro Onoue, Naoki Hayase, Kazutake Taniguchi, Hitoshi Maeda, Teiichiro Umezawa Photomask Technology 2023 2023年11月 Simulation study of Beyond-EUV mirrors for 6.7nm wavelength Naoki Hayase The 20th IEEE TOWERS 2023年10月 Feasibility study of alternative multilayer for EUV mask Teiichiro Umezawa, Yohei Ikebe, Naoki Hayase, Takahiro Onoue Photomask Technology 2022 2022年11月 所属学協会 2 2024年 - 現在 Optica 2024年 - 現在 SPIE
