乾 徳夫

<p>自立したグラフェンと基板間距離が近い場合，グラフェンは基板との間に生じるカシミール力で変形する．またそれに伴い，グラフェンの共振周波数は張力の増加により高周波数側にシフトする．これらグラフェンの機械的特性が基板との距離によりどのように変化するかについてディラックモデルを用いて理論的に考察する.</p>

サイズを選別した水およびメタノールクラスターイオンビームをアスパラギン酸薄膜に照射し、表面から放出された二次イオンを質量分析した。水およびメタノールの巨大クラスター照射による有機分子のイオン化には、試料中の残留水素からのプロトン付加反応の他に、クラスターと試料分子間でのプロトン交換反応が寄与していることがわかった。また、この反応は低エネルギー領域（～3.3eV）で促進されていることがわかった。

構成原子数が数千個であるArクラスターイオンを金属に衝突させた結果、その衝撃により構成原子数がより少ないクラスターイオンに解離した。この解離特性が、クラスターイオンと金属の接触面に作用する衝撃応力と相関関係があることを見出した。今回の報告では、ターゲットとして異なる種類の金属、および金属にグラフェンを積層させた場合について検討したところ、興味深い知見が得られたので報告する。