Spatial Distribution Analysis of Functional Groups in Resist Thin Film Using Reflection-Mode Resonant Soft X-ray Scattering

Yuri Ebuchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology, 37(6) 591-595, Dec 25, 2024
Observation Result of Chemical Composition Distribution of Resist Thin Film by Photoemission Electron Microscopy

Tsukasa Sasakura, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology, 37(6) 585-590, Dec 25, 2024
Current Status of EUV Flood Exposure Tool at NewSUBARU BL03

Ryuta Shiga, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology, 37(6) 579-584, Dec 25, 2024
EUV durability of CNT pellicles for next-generation scanner

Takahiro Ueda, Marcio D. Lima, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Takeshi Kondo

Japanese Journal of Applied Physics, 63(3), Mar 1, 2024
Carbon/boron multilayer for beyond EUV lithography

Umi Fujimoto, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe

Photomask Japan 2023: XXIX Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology, Sep 29, 2023

Misc.

193

Resonant Soft X-Ray Scattering in Reflection-mode for Spacial Evaluation in Resist Thin Film

中本敦啓, 山川進二, 原田哲男, 渡邊健夫

X線分析討論会講演要旨集, 58th, 2022
EUV mask observation by coherent EUV scatterometry microscope

原田哲男, 渡邊健夫

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 68th, 2021
Study of relationship between DNA damage by radiation and change of the characteristic of DNA transistor

吉田一輝, 松尾直人, 住友弘二, 部家彰, 山名一成, 原田哲男, 渡邊健夫, 田部井哲夫

生体医歯工学共同研究拠点成果報告書, 2020, 2021
A Global Shutter Wide Dynamic Range Soft X-Ray CMOS Image Sensor with 45μm-Thick Backside-Illuminated Pinned Photodiode and Two-Stage LOFIC

四家寛也, 黒田理人, 黒田理人, 黒田理人, 小林諒太, 村田真麻, 藤原康行, 鈴木学, 原田将真, 柴口拓, 栗山尚也, 初井宇記, 宮脇淳, 宮脇淳, 宮脇淳, 原田哲男, 山崎裕一, 山崎裕一, 渡邊健夫, 原田慈久, 原田慈久, 須川成利, 須川成利

映像情報メディア学会技術報告, 45(11(IST2021 8-21)), 2021
軟X線領域において量子効率90%以上の性能を有する背面照射型CMOSイメージセンサの開発

原田哲男, 寺西信一, 寺西信一, 渡邊健夫, ZHOU Quan, BOGAERTS Jan, WANG Xinyang

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web), 33rd, 2020

Books and Other Publications

CRDS 研究開発の俯瞰報告書ナノテクノロジー・材料分野

国立研究開発法人科学振興機構編, 2023
フォトレジストの最先端技術

CMC出版, 2022
基礎研究および産業利用を推進する放射光施設「ニュースバル」

文門科学教育通信文部科学省, 2022
CRDS 研究開発の俯瞰報告書ナノテクノロジー・材料分野

国立研究開発法人科学振興機構編, 2021
UV・EB硬化の最新開発動向

CMC出版, 2021

Presentations

882

EUVリソグラフィおよびレジスト・フォトマスクの概要、Beyond EUVLへの将来展望～目指すべき半導体業界の将来像～

「EUVリソグラフィ」AndTech WEB講習会（オンライン）, May 25, 2023
Technical issue of EUVL, prospect for EUVL and beyond EUVL

Takeo Watanabe

IEUVI Resist TWG Workshop 2023 (online) Invited
EUVリソグラフィ技術開発の現状およびその取り巻く環境、今後の展開

第253回フォトポリマー懇話会講演会先端・次世代リソグラフィ技術（オンライン）, Apr 25, 2023
EUVリソグラフィー技術開発の現状および今後の展開について

第70回応用物理学会春季学術講演会シンポジウムマイクロ・ナノスケール微細加工の表面界面先端技術
ニュースバルにおけるEUVL基板技術開発の現状と今後の展開

ニュースバルシンポジウム2023, Mar 13, 2023
高反射率かつ安定なBeyond EUVL用C/B多層膜の検討

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム, Mar 13, 2023
NewSUBARU BL-9 における光電子顕微鏡を用いた試料表面観察の検討

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム, Mar 13, 2023
EUV干渉露光系の高度化の検討

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム, Mar 13, 2023
軟X線反射型共鳴散乱法を用いたレジスト薄膜中における化学組成の空間分布評価

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム, Mar 13, 2023
低エネルギー電子線照射（LEEFET）を用いたEUVレジストへの電子線照射の検討

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム, Mar 13, 2023
EUV斜入射CSMによるレジスト欠陥検出の高感度の研究

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム, Mar 13, 2023
先端半導体動向と先端半導体微細加工の基板技術開発

次世代電池・半導体シンポジウム兵庫県「次世代電池・半導体技術開発拠点推進協議会」編, Mar 7, 2023
Technical issue of EUVL and prospect for EUVL and Beyond EUVL

Takeo Watanabe

7th EUV-FEL Workshop (hybrid), Jan 30, 2023 Invited
ニュースバル放射光施設におけるEUVリソグラフィー技術開発の取組および今後の展開～日本の半導体復興に向けて～

渡邊健夫

第30回放射線利用総合シンポジウム関西の放射線等利用施設の現状と将来展望（一般社団法人）大阪ニュークリアサイエンス協会（オンライン）, Jan 16, 2023
EUVリソグラフィの現状と今後の展開～ニュースバル放射光施設におけるEUVL基板技術開発～

渡邊健夫

第10回 SPring-8 次世代先端デバイス研究会 JASRI 第84回 SPring-8 先端利用技術ワークショップ, Dec 20, 2022
Development of low-energy-electron-flood-exposure tool (LEEFET)

Wataru Kusada, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

MNC2022
極端紫外線リソグラフィの現状および課題、並びに今後の展開

渡邊健夫

応用物理学会ナノ荷電粒子ビーム産学連携委員会第2回研究会（オンライン）, Nov 10, 2022
レジスト薄膜中の空間分布測定を目的とした軟X線反射型共鳴散乱の検討

渡邊健夫

第58回X線分析討論会, Nov 10, 2022
Fundamental Research for EUV Lithography at NewSUBARU Synchrotron Light Facility

Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa

Materials Science, Engineering & Technology (online) Invited
ニュースバル放射光施設における構造解析・化学分析の基礎およびこれらの産業利用事例

渡邊健夫

2022年度材料セミナー、放射光による組織観察、分析の基礎と応用, Oct 27, 2022
先端半導体微細加工技術が切り拓く世界～IRDS半導体国際ロードマップから読み解く極端紫外線リソグラフィーの技術志向～

渡邊健夫

技術セミナーin但馬（豊岡市ものづくりセミナー）, Oct 26, 2022
EUVリソグラフィーの技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望

渡邊健夫

サイエンス＆テクノロジーセミナー（オンライン）, Sep 29, 2022
デントリマー骨格を用いた化学増幅型レジスト材料の合成と特性評価

渡邊健夫

高分子討論会
斜入射X線共鳴散乱を用いたレジスト薄膜中の化学構成材の空間線量分布測定

渡邊健夫

高分子検討会
微細加工用レジストと先端リソグラフィー技術

渡邊健夫

第30回フォトポリマー懇話会講習会（オンライン）
Current Status and Prospect for EUV Lithography

Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa

RadTech Asia 2022 Invited
レジスト薄膜中の空間分布測定用軟X線反射型共鳴散乱法の検討（オンライン）

渡邊健夫

NGLワークショップ2022
EUVレジスト中の化学反応解析用電子線照射装置の構築（オンライン）

渡邊健夫

NGLワークショップ2022
300mm基板サイズ対応のレジスト感度測定装置の開発（オンライン）

渡邊健夫

NGLワークショップ2022
Grazing-Incidence Soft-X-ray Scattering for the Chemical Structure Size Distribution Analysis in EUV Resist

Atsunori Nakamoto, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

ICPST-39 (online)
Comparison of Photoresist Sensitivity between KrF, EB and EUV Exposure

Yousuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

ICPST-39 (online)
Development of Selenonium PAGs in EUV Lithography toward High Sensitivity Achievement

Tomohito Kizu, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe, Seiji Yasui, Tomoyuki Shibagaki

ICPST-39 (online)
EUVリソグラフィ・レジスト材料の基礎・最新動向とBeyond EUV への将来展望

渡邊健夫

Andtechセミナー（Webによるオンライン）, Jun 20, 2022
Research Activities Including the Hydrogen Brittle Evaluation in EUVL at NewSUBARU

Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa

2022 EUVL Workshop and Supplier Showcase Invited
Hydrogen Cleaning Evaluation of Mo/Si Multilayer using an EUV Irradiation Tool at New SUBARU

T. Harada, T. Fujii, S. Yamakawa, T. Watanabe

International Conference on Photomask Japan 2022 (online)
Development of Grazing-Incidence Coherent EUV Scatterometry Microscope for Resist Pattern Observation (2)

N. Kawakami, T. Harada, S. Yamakawa, T. Watanabe

International Conference on Photomask Japan 2022 (online)
EUV Research Activities at NewSUBARU

Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa

IEUVI Resist TWG Workshop 2022 (online), Apr 25, 2022 Invited
R&D Activities of EUV Lithography at NewSUBARU, and Possibility of Beyond EUV

Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa

High-brightness Congress 2022 (online) Invited
EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望

渡邊健夫

サイエンス＆テクノロジーセミナー（オンライン）, Mar 17, 2022
EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、光源の開発

渡邊健夫

EUVLセミナー（オンライン）、技術情報協会, Mar 10, 2022 Invited
EUVリソグラフィ技術課題と今後の展開

渡邊健夫

2021年度印刷・情報・電子用材料研究会講座高分子学会印刷・情報・電子用材料研究会（オンライン）, Jan 28, 2022
EUVリソグラフィー技術課題と今後の展開

渡邊健夫

2021年度印刷・情報・電子用材料研究会講座（オンライン）, Jan 28, 2022 Invited
ニュースバル各ビームラインの将来構想

渡邊健夫

ものづくりのための放射光分析実習プログラム, Dec 2, 2021
ニュースバル放射光施設における構造解析・化学分析の基礎

渡邊健夫

日本鉄鋼協会・日本金属学会・関西支部・毎年材料セミナー（オンライン）, Nov 8, 2021
EUVリソグラフィー・レジスト材料の基礎から最新研究動向、課題と展望まで

渡邊健夫

EUVLセミナー、情報機構, Oct 13, 2021 Invited
Fundamental Study of the Origin of the Stochastics in EUV Resist

Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa

MNC 2021 (online), Oct, 2021 Invited
The measurement of the refractive index n and k value of the EUV resist by EUV reflectivity measurement method

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

MNC 2021 (0nline), Oct, 2021
ニュースバルに於けるEUVリソグラフィー技術の研究開発の現状と今後の展開

渡邊健夫

知の交流シンポジウム（オンライン）, Sep 28, 2021
半導体技術覇権の鍵となる先端半導体微細加工技術であるEUVリソグラフィー技術開発

渡邊健夫

イノベーションジャパン2021 オンライン
EUVリソグラフィー・レジスト材料の基礎と応用

渡邊健夫

CMCリサーチセミナー（オンライン）, Sep 9, 2021

Professional Memberships

Mar, 2023 - Present

日本化学会
Oct, 2021 - Present

一般社団法人次世代日本半導体製造協会
Apr, 2000 - Present

高分子学会
Apr, 1998 - Present

日本放射光学会
Apr, 1991 - Present

日本応用物理学会

Works

Research Projects

Precise measurement of optical constants of thin films in soft X-ray region

Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (B), Japan Society for the Promotion of Science, Apr, 2015 - Mar, 2018

Kinoshita Hiroo, WATANABE Takeo, MURAMATSU Yasuji
Development of 1X nm EUV Resist with high sensitivity and Low LWR

Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (B), Japan Society for the Promotion of Science, Apr, 2013 - Mar, 2016

Watanabe Takeo, HARADA Tetsuo, KINOSHITA Hiroo, MUTO Masao, TSUNO Katsushige
Resist pattern replication using EUV interference lithography for 20 nm and below

Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (B), Japan Society for the Promotion of Science, 2010 - 2012

WATANABE Takeo, KINOSHITA Hiroo, HARADA Tetsuo, SHIONO Daiju
Chemical genetics on protein acetylation, a key reaction regulating biological functions

Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (A), Japan Society for the Promotion of Science, 2003 - 2005

YOSHIDA Minoru, YASHIRODA Yoko, YOSHIDA Yukiko, KAMEMURA Kazuo
Fabrication of aspherical surfaces for soft X-Ray optical elements by means of Deposition techniques

Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (C), Japan Society for the Promotion of Science, 1999 - 2001

NIIBE Masahito, WATANABE Takeo, KINOSHITA Hiroo

Industrial Property Rights

台湾特許権設定登録発明第I 429665号感光性樹脂及び感光性組成物

渡邊健夫
韓国特許権設定登録第10-1350717号 (7) Photosensitive Resin, and Photosensitive Composition

WATANABE Takeo
特許5279280 形状測定装置

渡邊健夫
特願012-60637 短波長コヒーレント光源及び透過型の減光機構

渡邊健夫
特開4921160 感光性樹脂及び感光性組成物

渡邊健夫

Media Coverage

持続可能な未来へ文理融合し「水素社会」実現兵庫県立大学

毎日新聞, 経済特集, Sep 19, 2022 Newspaper, magazine
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所、渡邊健夫教授・研究所長に聞く <世界に誇る「ニュースバル」駆使、ビヨンドEUV実現めざす＞

化学工業日報, Nov 9, 2021 Newspaper, magazine
MBSラジオ 2021年5月13日こんちわコンちゃんお昼です

MBSラジオ, こんちわコンちゃんお昼です, May 13, 2021 TV or radio program
MBSラジオ 2021年5月9日日曜コンちゃんおはようさん

MBSラジオ, 日曜コンちゃんおはようさん, May 9, 2021 TV or radio program
放射光施設で県立大新設の入射器運転開始スマホ性能向上にも貢献

神戸新聞, May 6, 2021 Newspaper, magazine

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