Spatial Distribution Analysis of Functional Groups in Resist Thin Film Using Reflection-Mode Resonant Soft X-ray Scattering

Yuri Ebuchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(6) 591-595 2024年12月25日
Observation Result of Chemical Composition Distribution of Resist Thin Film by Photoemission Electron Microscopy

Tsukasa Sasakura, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(6) 585-590 2024年12月25日
Current Status of EUV Flood Exposure Tool at NewSUBARU BL03

Ryuta Shiga, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(6) 579-584 2024年12月25日
EUV durability of CNT pellicles for next-generation scanner

Takahiro Ueda, Marcio D. Lima, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Takeshi Kondo

Japanese Journal of Applied Physics 63(3) 2024年3月1日
Carbon/boron multilayer for beyond EUV lithography

Umi Fujimoto, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe

Photomask Japan 2023: XXIX Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology 2023年9月29日

MISC

193

レジスト薄膜中の空間分布測定を目的とした軟X線反射型共鳴散乱の検討

中本敦啓, 山川進二, 原田哲男, 渡邊健夫

X線分析討論会講演要旨集 58th 2022年
レンズレス顕微鏡によるEUVマスク観察

原田哲男, 渡邊健夫

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年
放射線によるDNA損傷とトランジスタ特性変動の相関解明

吉田一輝, 松尾直人, 住友弘二, 部家彰, 山名一成, 原田哲男, 渡邊健夫, 田部井哲夫

生体医歯工学共同研究拠点成果報告書 2020 2021年
45μm厚裏面照射型フォトダイオード・2段LOFICを有する広ダイナミックレンジ軟X線検出グローバルシャッタCMOSイメージセンサ

四家寛也, 黒田理人, 黒田理人, 黒田理人, 小林諒太, 村田真麻, 藤原康行, 鈴木学, 原田将真, 柴口拓, 栗山尚也, 初井宇記, 宮脇淳, 宮脇淳, 宮脇淳, 原田哲男, 山崎裕一, 山崎裕一, 渡邊健夫, 原田慈久, 原田慈久, 須川成利, 須川成利

映像情報メディア学会技術報告 45(11(IST2021 8-21)) 2021年
軟X線領域において量子効率90%以上の性能を有する背面照射型CMOSイメージセンサの開発

原田哲男, 寺西信一, 寺西信一, 渡邊健夫, ZHOU Quan, BOGAERTS Jan, WANG Xinyang

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 33rd 2020年

書籍等出版物

882

EUVリソグラフィおよびレジスト・フォトマスクの概要、Beyond EUVLへの将来展望～目指すべき半導体業界の将来像～

「EUVリソグラフィ」AndTech WEB講習会（オンライン） 2023年5月25日
Technical issue of EUVL, prospect for EUVL and beyond EUVL

Takeo Watanabe

IEUVI Resist TWG Workshop 2023 (online) 招待有り
EUVリソグラフィ技術開発の現状およびその取り巻く環境、今後の展開

第253回フォトポリマー懇話会講演会先端・次世代リソグラフィ技術（オンライン） 2023年4月25日
EUVリソグラフィー技術開発の現状および今後の展開について

第70回応用物理学会春季学術講演会シンポジウムマイクロ・ナノスケール微細加工の表面界面先端技術
ニュースバルにおけるEUVL基板技術開発の現状と今後の展開

ニュースバルシンポジウム2023 2023年3月13日

軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2015年4月 - 2018年3月

木下博雄, 原田哲男, 村松康司, 渡邊健夫, 渡邊健夫, 村松康司
高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2013年4月 - 2016年3月

渡邊健夫, 原田哲男, 木下博雄, 武藤正雄, 津野勝重
EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2010年 - 2012年

渡邊健夫, 木下博雄, 原田哲男, 塩野大寿
極端紫外域での位相差型X線顕微鏡による表面微細構造観察

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 2003年 - 2005年

木下博雄, 渡邊健夫, 格内敏, 新部正人
薄膜堆積法によるX線光学素子用非球面形状の創製

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 1999年 - 2001年

新部正人, 渡邊健夫, 木下博雄